| 发明名称 | 用于形成自组装单层的化合物、层结构、含有层结构的半导体组件和生产层结构的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于形成自组装单层，特别地半导体组件用单层的化合物，该化合物的特征为能够与其它相似化合物和/或其它不同的化合物进行π－π相互作用用于稳定单层(11)的分子基团(3)。本发明也涉及层结构、半导体组件和生产层结构的方法。采用此方式，可以有效生产半导体组件，特别地有机场效应晶体管。 | ||
| 申请公布号 | CN1809580A | 申请公布日期 | 2006.07.26 |
| 申请号 | CN200480017305.8 | 申请日期 | 2004.06.18 |
| 申请人 | 因芬尼昂技术股份公司 | 发明人 | G·施密德;M·哈利克;H·克劳克;U·茨施尚;F·埃芬伯格;M·许茨;S·迈施;S·塞弗里茨;F·布克尔 |
| 分类号 | C07F7/18(2006.01);C07F7/12(2006.01);B05D1/18(2006.01);C03C17/38(2006.01);G03F7/004(2006.01);H01L51/05(2006.01) | 主分类号 | C07F7/18(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 庞立志;赵苏林 |
| 主权项 | 1.用于形成自组装单层的化合物，所述自组装单层特别地为半导体组件用单层，其特征为用于稳定单层(11)的能够与相同类型的其它化合物和/或另一种类型的化合物进行π-π相互作用的分子基团(3)。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||