发明名称 | 改善色偏之光学膜及其形成方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种改善色偏之光学膜及其形成方法。该光学膜包括:一基材以及一材料层;该材料层系形成于该基材上且包括一双折射性材料以及可吸收一波长范围之一染料。该光学膜之形成方法包括以下步骤:将可吸收一波长范围之一染料加入至具有一双折射性材料之一溶剂中以形成一波长吸收剂;将该波长吸收剂涂布于一基材上以形成一光学膜;使该光学膜中之该溶剂挥发;以及将该光学膜硬化。 | ||
申请公布号 | TW200624933 | 申请公布日期 | 2006.07.16 |
申请号 | TW093141204 | 申请日期 | 2004.12.29 |
申请人 | 力特光电科技股份有限公司 | 发明人 | 李东龙;吴龙海 |
分类号 | G02F1/1335 | 主分类号 | G02F1/1335 |
代理机构 | 代理人 | 何文渊 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县平镇市平东路659巷37号 |