发明名称 盘涂敷系统
摘要 本发明涉及盘涂敷系统。描述了一种盘处理和制造设备,其中处理腔体彼此在顶部叠置,且其中盘通过该系统在盘托架上移动,该托架可被调节以提取各种尺寸的盘。盘通过加载区进入该系统,并然后被安装到盘托架。它们在托架中顺序地通过处理腔体而在一个水平移动,并然后在提升器或升降器中移动到另一水平。在这另一水平,盘再次顺序通过该系统而在该水平移动,然后在卸载区退出。
申请公布号 CN1798862A 申请公布日期 2006.07.05
申请号 CN200480002494.1 申请日期 2004.01.20
申请人 英特维克公司 发明人 凯文·P.·费尔拜恩;特里·布卢克;克雷格·马里恩;罗伯特·E.·韦斯
分类号 C23C14/00(2006.01);C23C16/00(2006.01);C25B11/00(2006.01);C25B13/00(2006.01);C25B9/00(2006.01);C23F1/00(2006.01);H01L21/306(2006.01);B65H1/00(2006.01) 主分类号 C23C14/00(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 李玲
主权项 1.一种用于把基片处理为磁盘的基片处理系统,包括:输入通路,把盒中的基片馈送到处理系统及真空环境;提升器,逐个从所述盒提升基片;多个处理站,彼此对准并相邻以分别处理基片同时基片被保持在垂直方向;盘托架,把基片运送到处理站并在各基片被处理时保持基片在垂直位置,并通过所述处理站且从处理站到处理站移动;转移装置,把位于所述提升器上的基片转移到盘托架;传送通路和驱动器,把盘托架从处理站移动到处理站以及卸载区,所述卸载区具有提升器,以便在盘处理之后从所述盘托架移除处理过的盘,并把处理过的盘移回盒,以便传送出所述系统;所述处理站至少以第二层处理站位于第一层处理站之上的叠置关系配置,使得用于两个处理站的占地面积基本上不大于用于一个处理站的占地面积,并在纵向小于一个接一个配置两个处理站的占地面积。
地址 美国加利福尼亚