三槽一批次式晶圆洗净装置3 BATH 1 BATCH TYPE WAFER CLEANING APPARATUS

摘要

本发明系提供一种由三槽构成以减少机体且可提供洗净效果优于知之三槽一批次式晶圆自动洗净装置。本发明系可对复数张晶圆一并进行洗净及乾燥步骤者，包含有依序排列之3个槽，且前述3个槽包括：第1槽，系以SC1化学药品进行洗净作业者；第2槽，系以臭氧水与HF混合液进行洗净作业者；及第3槽，系在以HF化学药品进行最终洗净作业后，反覆加压及减压并使高温之氮流入内部进行乾燥作业者。