发明名称 近光学式材料处理装置
摘要 一种近光学式材料处理装置,包括有第一镜面及第二镜面。第一镜面系为弧面,并且具有位于腔体距离上之焦点,第一镜面开设有耦合孔,以使外部微波源输入之高功率微波,经耦合孔而沿腔体距离输出为高场强微波束,而第二镜面与第一镜面一同形成近光学作用腔,并且彼此可相对地移动,而调整两者间之腔体距离总长,而使待处理材料行经腔体距离上之高场强微波束的聚焦区(约是高场强微波束的一个波长),以快速地进行均匀的材料热处理。
申请公布号 TW200623968 申请公布日期 2006.07.01
申请号 TW093141643 申请日期 2004.12.31
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 朱国瑞;柏赖德;张存续;张宏宜;姜惟元;余青芳;戴伶洁;郑世裕;寇崇善
分类号 H05B6/78;H01Q19/18 主分类号 H05B6/78
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号