发明名称 | 近光学式材料处理装置 | ||
摘要 | 一种近光学式材料处理装置,包括有第一镜面及第二镜面。第一镜面系为弧面,并且具有位于腔体距离上之焦点,第一镜面开设有耦合孔,以使外部微波源输入之高功率微波,经耦合孔而沿腔体距离输出为高场强微波束,而第二镜面与第一镜面一同形成近光学作用腔,并且彼此可相对地移动,而调整两者间之腔体距离总长,而使待处理材料行经腔体距离上之高场强微波束的聚焦区(约是高场强微波束的一个波长),以快速地进行均匀的材料热处理。 | ||
申请公布号 | TW200623968 | 申请公布日期 | 2006.07.01 |
申请号 | TW093141643 | 申请日期 | 2004.12.31 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 朱国瑞;柏赖德;张存续;张宏宜;姜惟元;余青芳;戴伶洁;郑世裕;寇崇善 |
分类号 | H05B6/78;H01Q19/18 | 主分类号 | H05B6/78 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |