光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法

摘要

本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物，该光致抗蚀剂剥离液组合物在半导体元件和液晶显示元件等的制造工艺中，对在湿蚀刻或者干蚀刻工序中发生变质或者固化的光致抗蚀剂，使用浸渍法、喷雾法或者单片方式，在低温、短时间内容易剥离，对暴露于剥离液组合物的下部的金属膜质和氧化膜质不会引起损伤，在后续的工序中，不需要使用像异丙醇、二甲亚砜那样的有机溶剂，仅用水就可进行冲洗。

主权项

1、光致抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，相对组合物的总量，其含有5重量％～50重量％的有机胺化合物；10重量％～50重量％的乙二醇醚化合物；0～30重量％的水溶性有机溶剂；0.1重量％～10重量％的防腐蚀剂，所述防腐蚀剂是直链多元醇、下述化学式3表示的有机酸化合物、芳香族羟基化合物或者它们的混合物，[化学式3]R4CO2H 式中，R4表示氢原子、羧基、直链或支链的C1-10的烷基、直链或支链的C2-10的链烯基、C5-8的环烷基或C6-10的烯丙基，或它们被选自由卤素、羟基、羧基以及磺基组成的组中的取代基取代后的基团；和余量的去离子水。