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发明名称
曝光方法及曝光装置
摘要
【课题】在由光阻剂层等对光具有灵敏度的感光层所叠层之印刷电路板等记录媒体上将图案曝光时,在保持感光层之密接性下,防止无法除去感光层或感光层之容易剥离。【解决方式】利用曝光装置3将配线图案曝光于在基板上所形成之光阻剂层时,使照射于配线图案的边缘区域之光的照射能量,比照射于边缘区域以外之其他的区域之光的照射能量更大。
申请公布号
TW200619867
申请公布日期
2006.06.16
申请号
TW094137407
申请日期
2005.10.26
申请人
富士照相软片股份有限公司
发明人
佐佐木义晴
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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