| 发明名称 | 涂料组合物、多孔硅质膜、用于制备多孔硅质膜的方法以及半导体装置 | ||
| 摘要 | 提供了一种具有高机械强度并且适合用于层间绝缘膜的低介电常数的多孔硅质膜。根据本发明的涂料组合物的特征在于包含：一种有机溶剂和包含在所述的有机溶剂中的1)聚烷基硅氮烷和2)至少一种有机树脂成分，该成分选自于由丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的均聚物和共聚物组成的组，基团－COOH和/或基团－OH被包含在包含于至少一种该有机树脂成分的至少部分侧基中。 | ||
| 申请公布号 | CN1780890A | 申请公布日期 | 2006.05.31 |
| 申请号 | CN200480011690.5 | 申请日期 | 2004.03.24 |
| 申请人 | AZ电子材料(日本)株式会社 | 发明人 | 青木伦子;青木宏幸 |
| 分类号 | C09D183/16(2006.01);C01B33/12(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | C09D183/16(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种涂料组合物，其特征在于包含：有机溶剂和包含在所述的有机溶剂中的1)聚烷基硅氮烷和2)至少一种有机树脂成分，该成分选自于由丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的均聚物和共聚物组成的组，基团-COOH和/或基团-OH被包含在包含于至少一种该有机树脂成分的至少部分侧基中。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||