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发明名称 METHOD FOR ETCHING POLYSILICON LAYER ON THE PLASMA ETCHING SYSTEM
摘要
申请公布号 KR100576430(B1) 申请公布日期 2006.05.08
申请号 KR20030100528 申请日期 2003.12.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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