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经营范围
发明名称
PHOTOMASK FOR STORAGE NODE AND METHOD FOR FABRICATING STORAGE NODE PATTERN USING THE SAME
摘要
申请公布号
KR20060037824(A)
申请公布日期
2006.05.03
申请号
KR20040086880
申请日期
2004.10.28
申请人
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人
PARK, HAE CHAN;YOU, BYOUNG HWA
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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