发明名称 清洗方法及用以实施该法之清洗装置
摘要 本发明的课题在于可在不加大清洗装置的情况下,确实地去除附着于晶圆、玻璃、金属等上的有机物或异物。其解决手段在于具备:放射性气体生成手段,其包括第1加热手段(3)和第2加热手段(4),该第1加热手段(3)用以对液体加热而生成蒸气,该第2加热手段(4)用以藉由对由该第1加热手段(3)生成的蒸气进一步加热,制造次临界的放射性气体;气体喷射手段(5),其将藉由该放射性气体生成手段(2)制造的放射性气体喷射到被清洗物上;以及清洗液供给手段(6),其用以在被清洗物上形成清洗水的被覆膜;其中,藉由放射性气体生成手段(2)生成次临界的放射性气体,同时在藉由运送手段运送来的被清洗物上形成清洗水的被覆膜,将上述放射性气体从该清洗水的被覆膜吹到上述被清洗物上。
申请公布号 TW200613070 申请公布日期 2006.05.01
申请号 TW094124063 申请日期 2005.07.15
申请人 杰维思股份有限公司 发明人 小林芳树;安川雅彦
分类号 B08B3/04 主分类号 B08B3/04
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本