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发明名称
微影装置及器件制造方法
摘要
本发明揭示一种微影投影装置。该装置包括一经组态以调节一辐射光束之照明系统,及一经组态以支撑一图案化器件之支撑结构。该图案化器件用于将一图案赋予该辐射光束之一横截面中。该装置亦包括一经组态以固持一基板之基板台、一经组态以将该图案化光束投影于该基板之一目标部分上的投影系统及一经组态以提供一流体至一体积之流体供应系统。该体积包括该投影系统之至少一部分及/或该照明系统之至少一部分。该装置进一步包括一经组态以将该流体供应系统耦接至该基板台、基板、支撑结构、图案化器件或其任何组合的耦接器件。
申请公布号
TW200612207
申请公布日期
2006.04.16
申请号
TW094120867
申请日期
2005.06.22
申请人
ASML公司
发明人
杰瑞 罗夫;乔汉那 凯撒琳那斯 胡勃特 莫肯;CATHARINUS HUBERTUS;婕若 乔汉那 苏菲亚 玛莉亚;SOPHIA MARIA;安东尼奥 乔汉那 凡得烈;凡得汉 拉诺;拉勒曼 尼可拉斯;玛索 贝克
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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