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发明名称 WAFER CLEANING SYSTEM USING CARBON DIOXIDE
摘要
申请公布号 KR20060032001(A) 申请公布日期 2006.04.14
申请号 KR20040081002 申请日期 2004.10.11
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KEUM, GYEONG SU;WOO, YONG KYU;CHAE, SEUNG KI;YANG, YUN MO;HONG, HYUNG SIK;KIM, DONG SIK;HA, TAE HONG;WON, JAI HYUNG
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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