Dampfquelle und Beschichtungsteil einer Anlage zur Herstellung dünner Schichten unter Vakuumbedingungen aus mindestens zwei sich hinsichtlich ihres Dampfdruckes unterscheidenden Beschichtungskomponenten

摘要

Es wird eine Dampfquelle und ein Beschichtungsteil einer Anlage zur Herstellung dünner Schichten unter Vakuumbedingungen aus mindestens zwei, sich hinsichtlich ihres Dampfdruckes stark unterscheidenden Beschichtungskomponenten vorgestellt. Die Dampfquelle ist aus einem topfförmigen Vorratsbehälter aus gut wärmeleitendem Material für die bei niedrigster Temperatur verdampfende Komponente. Das Beschichtungsteil ist aus einem massiven Block, das Lagergehäuse aus gut wärmeleitendem Material, vorzugsweise Metall, der einen zentralen vertikalen Durchgangsbereich und eine horizontale, den Durchgangsbereich zentral kreuzende Durchgangsbohrung hat, in der ein drehbar gelagerter Substrathalter sitzt. Der Substrathalter hat an seiner Mantelwand eine ebene Stelle zur Fixierung eines radial nach außen exponierbaren Substrats. Der vertikale Durchgang ist über mindestens einen Kanal durchgängig. Die Dampfquelle und das Lagergehäuse umgeben jeweils eine elektrische Heizung. Über dem Beschichtungsteil steht die Zerstäubungsquelle mit ihrer ausgerichteten Emissionsfläche.