| 发明名称 | 用于密封一衬底的方法及系统 | ||
| 摘要 | 本文描述一种将一微机电系统(MEMS)装置76与环境条件隔绝的方法，其中所述MEMS装置76形成于一衬底72上，且一基本上呈气密性的密封件78作为所述MEMS装置制造工艺的一部分形成。所述方法包括使用诸如光刻等方法在所述衬底上靠近所述MEMS装置76的一周边形成一金属密封件78。所述金属密封件78形成于所述衬底上，同时所述MEMS装置76在MEMS元件的导电部件之间保留一牺牲层，且所述牺牲层在形成所述密封件之后且在附装一背板74之前被移除。 | ||
| 申请公布号 | CN1755431A | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN200510103553.0 | 申请日期 | 2005.09.21 |
| 申请人 | IDC公司 | 发明人 | 菲利浦·D·弗洛伊德 |
| 分类号 | G02F1/01(2006.01);G02F1/21(2006.01) | 主分类号 | G02F1/01(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王允方 |
| 主权项 | 1、一种将一微机电系统(MEMS)装置与环境条件隔绝的方法，其包括：在一包含一MEMS装置的衬底上形成一实质为金属的密封件；及将一背板附装至所属金属密封件以将所述MEMS装置与环境条件隔绝。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||