| 主权项 |
1.一种光记录媒体,包含: 一基板,其具有一螺旋状沟槽成形于其至少一面上 ;以及 一含有有机染料之记录层成形于基板之形成沟槽 该侧的表面上, 其中沟槽壁于其向内侧之平均倾角系大于其向外 侧之平均倾角。 2.如申请专利范围第1项之光记录媒体,进一步包含 一反射层设置于该基板之与记录层相对该侧。 3.如申请专利范围第1或2项之光记录媒体,其中该 沟槽系与预设振幅颤动;以及于该振幅中心,沟槽 壁于其向内侧之倾角系大于沟槽壁于其向外侧之 倾角。 4.如申请专利范围第3项之光记录媒体,其中于沟槽 颤动最向外部分,沟槽壁于其向内侧之倾角系大于 沟槽壁于其向外侧之倾角。 5.一种光记录媒体之制法,包含: 一第一步骤,曝光光阻母碟,而曝光雷射束光轴平 均系朝向光阻母碟之向内侧倾斜; 一第二步骤,转印如此藉曝光形成于光阻母碟上之 图案来制备光记录媒体用母碟; 一第三步骤,转印形成于光记录媒体用母碟之图案 来制备一具有一沟槽之基板;以及 一第四步骤,旋涂含有机染料之溶液至基板之有沟 槽成形于其上该侧之表面上。 6.如申请专利范围第5项之光记录媒体之制法,其中 于第一步骤,曝光雷射束朝向光阻母碟向内侧之平 均偏转角预设为由大于0度至不大于0.00045度。 7.如申请专利范围第6项之光记录媒体之制法,其中 于第一步骤,曝光雷射束之辐射角变化造成形成曝 光图案以预定振幅颤动,于对应振幅中心之曝光图 案曝光期间,曝光雷射束朝向光阻母碟向内侧之偏 转角度预设为由大于0度至不大于0.00045度。 8.如申请专利范围第7项之光记录媒体之制法,其中 于光阻母碟之对应沟槽颤动最向外部分之该部分 曝光期间,曝光雷射束朝向光阻母碟向内侧之偏转 角预设为由大于0度至不大于0.00045度。 9.一种光记录媒体之制法,包含: 一第一步骤,使用一光记录媒体用母碟,其具有螺 旋状升高图案,来制备一具有一螺旋状沟槽之基板 ,其中升高图案壁于其向内侧之平均倾角系大于升 高图案壁于其向外侧之平均倾角;以及 一第二步骤,旋涂含有机染料之溶液至基板于其有 沟槽成形于其上之该侧表面上。 10.一种用于制造光记录媒体基板之光记录媒体用 母碟,其中制备光记录媒体用基板之光母碟,其中 提供螺旋状升高图案于其表面上,且升高图案壁于 其向内倾之倾角系大于升高图案壁于其向外侧之 倾角。 11.一种光记录媒体用母碟之制法,包含: 一第一步骤,将一光阻母碟曝光,该曝光雷射束之 光轴平均系朝向光阻母碟之向内侧倾斜;以及 一第二步骤,藉曝光转印如此形成于光阻母碟之图 案,来制备一光记录媒体用母碟。 图式简单说明: 图1A为分解透视图,显示根据本发明之较佳具体例, 光记录媒体10之外观; 图1B为图1A部分A之放大部分剖面图; 图2为放大剖面图,显示光透射基板11表面侧绘细节 ; 图3为颤动沟槽11a之典型顶视平面图; 图4A显示沟槽11a最向外颤动之部分41之剖面图侧绘 ; 图4B显示振幅之中心部分42之剖面图侧绘; 图4C显示沟槽11a最向内颤动之部分43之剖面图侧绘 ; 图5显示沟槽11a内部之记录层21厚度之略图; 图6显示用于切割光阻母碟之切割装置范例之示意 组配图; 图7显示曝光雷射束121a光轴偏转之略图; 图8为沿感光材料层202之径向方向所取之部分剖面 图,该感光材料层202已经经过曝光而有潜像形成于 其上; 图9显示当允许潜像203颤动时,曝光雷射束121a光轴 偏转之略图; 图10A至10E显示光记录媒体用母碟210制造方法之流 程图; 图11显示光记录媒体用母碟210之表面侧绘细节之 放大剖面图; 图12A至12C显示光记录媒体10制造方法之流程图; 图13A至13C显示光记录媒体10之其余制造方法之流 程图; 图14显示于性质评比1,雷射束30记录功率(Pw)与非对 称性间之关系图; 图15显示于性质评比2,雷射束30记录功率(Pw)与非对 称性间之关系图;以及 图16显示于性质评比2,非对称性与错误率间之关系 图。 |
