光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明为一种包含浸渍(immersion)曝光步骤之光阻图型之形成方法所使用之光阻组成物，其为含有基于酸之作用使硷可溶性产生变化之树脂成份(A)，与经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)，与由2–庚酮与乳酸乙酯所成群中所选出之至少1种溶剂(c1)为主成份之有机溶剂(C)之光阻组成物。