| 摘要 |
Procedimiento para la producción de una preforma de sílice óptica de alta pureza, que comprende a) vaporización de un compuesto organosilíceo; b) descomposición térmica de dicho compuesto organosilíceo en el estado vapor, para dar partículas de sílice fundidas amorfas; c) deposición de dichas partículas de sílice fundidas amorfas sobre un soporte; y caracterizado por el hecho de que dicho compuesto organosilíceo tiene la siguiente fórmula (I) en la que R1, R2 y R3 son cada uno, de manera independiente, hidrógeno, metil, etil, propil, isopropil o un grupo de fórmula -Si-(R5 R6 R7), donde R5, R6 y R7 son cada uno, de manera independiente, metil, etil, propil o isopropilo, y R4 es un grupo de fórmula -(CH2)m-Si-(R5 R6 R7), donde R5, R6 y R7 son como se ha definido anteriormente y m es un entero entre 0 y 3. |
