发明名称 具有改良强度的功率半导体装置
摘要 本发明所公开的功率半导体由一n+漏极区域;一n-外延区域;p基体与p+基体区域,于n-外延区域之上形成一条纹状配置;一n°外延区域,形成于n-外延区域之上与介于p基体与p+基体区域之间;一P型边缘区域,形成于n°外延区域之下以连接该p+基体区域的两端;一n+源极区域,形成于该p基体区域两端;栅极介电质,形成于n+基体区域、p-基体区域,以及n°外延区域之上;以与门极电极,形成于栅极介电质之上,等等所组成,特别是本发明的功率半导体的P型边缘区段由多重子区域所组成,以避免不平整电流集中在p+基体区域,并借此提升功率半导体的强度。
申请公布号 CN1747180A 申请公布日期 2006.03.15
申请号 CN200510091561.8 申请日期 2005.08.23
申请人 敦南科技股份有限公司 发明人 金钟旼
分类号 H01L29/78(2006.01) 主分类号 H01L29/78(2006.01)
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 张龙哺;郑特强
主权项 1.一种具有改良强度的功率半导体,包含:一功率半导体,具有一传导型态一的漏极区域;一传导型态一的主要外延区域,布置于该漏极区域之上;多重的传导型态二的主要与次要基体区域,以一条纹状配置布置于该主要外延区域之上;一传导型态一的次要外延区域,形成于主要基体区域之间;一传导型态二的边缘区域,形成于该次要外延区域之下以围绕次要基体区域,并连接至次要基体区域的两端;多重的传导型态一的源极区域,形成于主要基体区域的一特定区域之内;栅极介电质,形成于源极区域、主要基体区域,以及次要外延区域之上;以及该边缘区域由多重子区域形成。
地址 台湾台北县