| 发明名称 | 制造光学数据存储介质的方法、光学数据存储介质和执行所述方法的设备 | ||
| 摘要 | 描述了一种制造光学数据存储介质的方法，所述介质包括至少一个基底(11)和沉积在基底(11)上的多个层。所述介质包括透明间隔层和透明覆盖层(12)中的至少一个。所述层(12)是通过下述操作提供的：将液体施加到旋转基底(11)上并进一步旋转基底以便将液体在内径r<SUB>i</SUB>和外径r<SUB>o</SUB>之间基本均匀地延展成一个层，并借助曝光于UV射线来凝固所述液体层(12)。在将液体施加到旋转基底上之后，通过加热装置以这样一种方式加热液体层(12)：在r<SUB>i</SUB>处的液体层(12)的温升具有值δT<SUB>ri</SUB>，而液体层(12)在r<SUB>i</SUB>和r<SUB>o</SUB>之间的温升逐渐升高，且液体层(12)在r<SUB>o</SUB>处的温升具有值δT<SUB>ro</SUB>＞δT<SUB>ri</SUB>。这样，当在信息存储区上进行测量时，间隔层或覆盖层具有小于+/－1μm的厚度变化。另外还描述了使用所述方法制造的介质和用于执行所述方法的设备。 | ||
| 申请公布号 | CN1739152A | 申请公布日期 | 2006.02.22 |
| 申请号 | CN200380108763.8 | 申请日期 | 2003.11.04 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | P·H·G·M·韦沃曼斯;K·穆斯科瓦;F·S·J·P·范德科霍夫;E·J·普林斯;J·C·H·贾科布斯 |
| 分类号 | G11B7/26(2006.01);G11B7/24(2006.01);B05C11/08(2006.01);G03F7/16(2006.01);H01L21/00(2006.01);B05D1/00(2006.01) | 主分类号 | G11B7/26(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 程天正;王勇 |
| 主权项 | 1.一种制造光学数据存储介质的方法，所述介质包括至少一个基底(11)和沉积在基底(11)上的多个层，所述基底包括透明间隔层和透明覆盖层(12)的至少其中之一，该层是通过下述操作提供的：将液体施加到旋转基底(11)上、进一步旋转基底(11)以便将液体在内径ri和外径ro之间基本均匀地延展成一个层以及借助曝光于UV射线来凝固所述液体层(12)，其特征在于：-在将液体施加到旋转基底上之后，通过加热装置(14)以这样一种方式加热液体层(12)：-液体层(12)在ri处的温升具有值δTri，而-液体层(12)在ri和ro之间的温升逐渐升高，-液体层(12)在ro处的温升具有值δTro＞δTri。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||