Verfahren zum tiefenaufgelösten Charakterisieren einer Schicht eines Trägers

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum tiefenaufgelösten Charakterisieren einer Schicht 2 eines Trägers 1. Hierbei wird zunächst eine Ausnehmung 3 in der Schicht 2 des Trägers 1 mit einer Seitenwand 4 hergestellt und nachfolgend Trägermaterial 5 angrenzend an die Seitenwand 4 mithilfe eines Ionenstrahls 7 abgetragen. Während des Abtragprozesses werden sowohl Abbilder der Seitenwand 4 aufgenommen als auch Materialzusammensetzungen des abgetragenen Trägermaterials 5 ermittelt. Ein tiefenaufgelöstes Charakterisieren der Schicht 2 des Trägers 1 wird anhand einer Korrelation der ermittelten Materialzusammensetzungen des abgetragenen Trägermaterials 5 mit den aufgenommenen Abbildern der Seitenwand 4 durchgeführt, wobei den Materialzusammensetzungen des abgetragenen Trägermaterials 5 mithilfe der Abbilder der Seitenwand 4 Schichttiefen zugeordnet werden. Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung 10 zum Durchführen dieses Verfahrens.