| 发明名称 | 等离子体显示面板的制造方法及其制造装置 | ||
| 摘要 | 一种向等离子体显示面板的基板成膜优质金属氧化膜的制造方法。在形成由作为金属氧化膜的MgO膜形成的保护层(8)的工序中，这时的成膜是在将作为成膜室的蒸镀室(21)内的真空度控制在1×10<SUP>－1</SUP>Pa～1×10<SUP>－2</SUP>Pa的范围内的状态下进行的，能够制造出在保护层(8)的形成过程中成膜速度和膜质良好，并且可以良好地进行图像显示的等离子体显示面板。 | ||
| 申请公布号 | CN1717765A | 申请公布日期 | 2006.01.04 |
| 申请号 | CN200480001466.8 | 申请日期 | 2004.07.14 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 高濑道彦 |
| 分类号 | H01J9/02(2006.01);H01J11/02(2006.01) | 主分类号 | H01J9/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 李峥;杨光军 |
| 主权项 | 1.一种等离子体显示面板的制造方法，它是具有向等离子体显示面板的基板形成金属氧化膜的工序的等离子体显示面板的制造方法，其特征在于：在前述金属氧化膜的成膜时，成膜室的真空度在1×10-1Pa～1×10-2 Pa的范围内。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||