| 主权项 |
1.一种可置于一第一参考表面上之雷射水平仪,其包括:一壳体;一摆体,其枢接于该壳体上;一第一雷射二极体,其系设置于该摆体上以供沿着一第一路径发射一第一雷射光束;一第一透镜,其系设置于位在该第一路径中之该摆体上以供将该第一雷射光束转变成一第一平面光束,而该第一平面光束在该第一参考平面上形成一第一直线;一第二雷射二极体,其系设置于该摆体上以供沿着一第二路径发射一第二雷射光束;一第二透镜,其系设置于位在该第二路径中之该摆体上以供将该第二雷射光束转变成一第二平面光束,而该第二平面光束在该第一参考平面上形成一第二直线;其中该第一及第二直线大体上呈垂直且不相交。2.根据申请专利范围第1项之雷射水平仪,其另包括一锁制机构以供固定该摆体相对于该壳体之位置。3.根据申请专利范围第2项之雷射水平仪,其中该锁制机构包括一可枢转之锁件可移动于一接触到该摆体之第一位置与一侧烧过该摆体之第二位置间。4.根据申请专利范围第3项之雷射水平仪,其另包括一将该锁件压向该第一位置之弹簧。5.根据申请专利范围第3项之雷射水平仪,其另包括一起动器以供移动该锁件于该第一及第二位置之间。6.根据申请专利范围第1项之雷射水平仪,其中该壳体具有至少一铅直参考平面。7.根据申请专利范围第6项之雷射水平仪,其中该第一光束大体上平行于该铅直参考平面。8.根据申请专利范围第6项之雷射水平仪,其中该第二光束大体上垂直于该铅直参考平面。9.根据申请专利范围第1项之雷射水平仪,其中该壳体具有至少一水平参考平面。10.根据申请专利范围第9项之雷射水平仪,其中该第二光束大体上平行于该水平参考平面。11.根据申请专利范围第9项之雷射水平仪,其中该第一光束大体上垂直于该水平参考平面。12.一种可置于一第一参考表面上之雷射水平仪,其包括:一壳体,其具有一大体上铅直之参考表面;一第一雷射二极体,其系设置于该壳体内以供沿着一第一路径发射一第一雷射光束;一第一透镜,其系设置于位在该第一路径中之该壳体内以供将该第一雷射光束转变成一第一平面光束,而该第一平面光束在该第一参考平面上形成一第一直线,该第一直线大体上平行于该铅直参考表面;一第二雷射二极体,其系设置于该壳体内供沿着一第二路径发射一第二雷射光束;一第二透镜,其系设置于位在该第二路径中之该壳体内以供将该第二雷射光束转变成一第二平面光束,而该第二平面光束在该第一参考平面上形成一第二直线,该第二直线大体上垂直于该铅直参考表面。13.一种可置于一第一参考表面上之雷射水平仪,其包括:一壳体,其具有一大体上呈水平之参考表面;一第一雷射二极体,其系设置于该壳体内以供沿着一第一路径发射一第一雷射光束;一第一透镜,其系设置于位在该第一路径中之该壳体内以供将该第一雷射光束转变成一第一平面光束,而该第一平面光束在该第一参考平面上形成一第一直线,该第一直线大体上垂直于该水平参考表面;一第二雷射二极体,其系设置于该壳体内以供沿着一第二路径发射一第二雷射光束;一第二透镜,其系设置于位在该第二路径中之该壳体内以供将该第二雷射光束转变成一第二平面光束,而该第二平面光束在该第一参考平面上形成一第二直线,该第二直线大体上平行于该水平参考表面。14.一种可置于一第一参考表面上之角度测量装置,其包括:一本体,其上具有一刻度;一壳体,其系可转动地装设于该本体上;一第一雷射二极体,其系设置于该壳体内以供沿着一第一路径发射一第一雷射光束;及一第一透镜,其系设置于位在该第一路径中之该壳体内以供将该第一雷射光束转变成一第一平面光束,而该第一平面光束至少在该第一参考平面及该刻度两者之一上形成一第一直线。图式简单说明:图1系依据本发明雷射水平仪之第1实施例之立体图;图2系依据本发明雷射水平仪之第2实施例之剖面图;图3系显示本雷射水平仪之第一壁挂总成;图4系设有第二壁挂总成之雷射水平仪之部分剖面图;及图5系显示一配合本雷射水平仪使用之角度测量装置。 |
