一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法

摘要

一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法，其结构通式如下：∴m＝10-2000，n＝1-200R＝CH₂CH₂CH₂NHZ或CH₂NHCH₂CH₂NHZ或CH₂CH₂CH₂NHCH₂CH₂NHZ或(CH₂)₃NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NHZZ＝CH₂CHOHCH₂SO₃M或C₂H₄SO₃M或CH₂CHOHCH₂OPO₃M或CH₂CH₂CH₂SO₃MM＝Na，K，NH₄该有机硅阴离子表面活性剂合成方法为：合成氨烃基聚硅氧烷，经缩合反应将氨烃基聚硅氧烷引入亲水基。本发明的优点是所用的原料易得，价格低廉，反应条件简单易行，收率较高，易于工业化生产。该表面活性剂具有乳化，分散，润湿，抗静电，消泡，稳泡，起泡，柔软、滑爽等性能，可用于日化、食品、生物工程、轻工、纺织、石油化工、电子、医药、农药等领域。

主权项

1.一种有机硅阴离子表面活性剂，其特征在于具有如下的结构通式：式中：m＝10-2000，n＝1-200                     R＝CH₂CH₂CH₂NHZ                     或CH₂NHCH₂CH₂NHZ                     或CH₂CH₂CH₂NHCH₂CH₂NHZ                     或(CH₂)₃NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NHZ                     Z＝CH₂CHOHCH₂SO₃M                     或C₂H₄SO₃M                     或CH₂CHOHCH₂OPO₃M                     或CH₂CH₂CH₂SO₃M                     M＝Na，K，NH₄。