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发明名称 COMPOSITION FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, METHOD FOR CLEANING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20050110470(A) 申请公布日期 2005.11.23
申请号 KR20040035495 申请日期 2004.05.19
申请人 TECHNO SEMICHEM CO., LTD.;SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 LEE, KWANG WOOK;HWANG, IN SEAK;LEE, KEUM JOO;SONG, CHANG LYONG;KO, YONG SUN;BAEK, KUI JONG;HAN, WOONG
分类号 C11D7/08;C11D1/00;C11D3/02;C11D7/10;C11D7/18;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/36;C11D11/00;H01L21/02;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/321;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 C11D7/08
代理机构 代理人
主权项
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