Objektivlinse für einen geladenen Partikelstrahl

摘要

Es ist eine Objektivlinse (2) für einen geladenen Partikelstrahl offenbart. Das Objektivlinsensystem (20) der Objektivlinse (2) besteht aus einer Linsenwicklung (21) und einem Eisenkreis (22), wobei der Eisenkreis (22) einen unteren Polschuh (25) trägt, der konisch ausgebildet ist und gegenüber einer Oberfläche (6a) des Wafers (6) vorgesehen ist. Ein Stützzylinder (23) umgibt das Objektivlinsensystem (20), wobei sein unterer Teil ein Messsystem (24) zur Bestimmung der Höhenlage der Oberfläche (6a) des Wafers (6) umfasst.