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Die Erfindung betrifft einen Plasmareaktor zur Oberflächenbeschichtung oder -modifikation von Gegenständen bzw. Substraten mit Plasmaverfahren in einer Prozesskammer, vorzugsweise bei reduziertem Druck als Vakuumprozess, mit einer Eingangsschleuse zur Prozesskammer sowie einer Ausgangsschleuse. Mit der Erfindung soll ein Plasmareaktor geschaffen werden, der bei gleichbleibend hoher Produktivität eine schnelle, einfache und selektive Reinigung der Plasmaquellen sowie angrenzender Bereiche der Prozesskammer ermöglicht wird. Erreicht wird das dadurch, dass in der Prozesskammer (1) mehrere, mindestens jedoch zwei Plasmazonen mit jeweils zugehörigen Plasmaquellen (2, 3; 15, 16) bzw. Remote- oder Downstream-Plasmaquellen (14) vorgesehen sind, wobei die Substrate (4) an den Plasmaquellen (2, 3; 14; 15, 16) vorbei führbar sind und dabei den durch das Plasma mindestens einer der Plasmaquellen (2, 3; 14; 15, 16) chemisch aktivierten Prozessgasen ausgesetzt sind, und dass mindestens eine der Plasmaquellen (2, 3; 14, 15, 16) selektiv von den zu bearbeitenden Substraten (4) und der Prozesskammer (1) isolierbar sind und dass der oder den isolierten Plasmaquellen (2, 3; 14; 15, 16) und dem sie umgebenden Bereich der Prozesskammer (1) ein Ätzgas zuführbar ist.
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