Method for making contact plug having double doping distribution in semiconductor device,申请号KR20020058102-传众专利搜索

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发明名称	Method for making contact plug having double doping distribution in semiconductor device
摘要
申请公布号	KR100524800(B1)	申请公布日期	2005.11.02
申请号	KR20020058102	申请日期	2002.09.25
申请人		发明人
分类号	H01L21/28;H01L21/283;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/28	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
主权项
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