| 主权项 |
1.一光学读取头装置,包括:一第一光源,以产生一第一光线;一第二光源,以产生一第二光线,其中该第二光线之光轴与该第一光源之光轴平行,且该第二光源与一记录介质之光学距离较其与该第一光源之光学距离远;一光侦测器,用以接收分别由该第一光源及该第二光源发射,并由该记录介质反射,且经光电转换之该第一光线及该第二光线;一物镜,用以将该第一及该第二光线聚焦至该记录介质上,该物镜置于该第一及第二光源,以及该记录介质之光路径上;以及一分光器,置于该物镜及该光侦测器之间的光路径上,具有一第一表面用以将该第一及该第二光线向物镜反射,并同时使其透射,以及一形成有一全像图案之第二表面,用以补偿透射该第一表面之该第一及第二光线之光轴偏差。2.如申请专利范围第1项所述之光学读取头装置,其中该全像图案的形成将该第一光线绕射成一较大之+1级绕射光线以及一较小之残余光线,并将该第二光线绕射成一较大之0级绕射光线以及一较小之残余光线。3.如申请专利范围第2项所述之光学读取头装置,其中该第一表面的设定使得该第二光线以一45度角成入射。4.如申请专利范围第3项所述之光学读取头装置,其中在该第一表面上又形成一涂布层,以50%该第一光线得以反射,以及50%的该第一光线得以透射。5.如申请专利范围第3项所述之光学读取头装置,其中该第一表面上又形成一涂布层,以50%该第二光线得以反射,以及50%的该第一光线得以透射。6.如申请专利范围第3项所述之光学读取头装置,其中该全像图案的形成使得该+1级绕射线至少占该第一光线的70%。7.如申请专利范围第3项所述之光学读取头装置,其中该全像图案的形成使得该0级绕射线至少占该第二光线的70%。8.如申请专利范围第1项所述之光学读取头装置,又包括一准直镜装置于该分光镜及该物镜之间的光路径上。9.如申请专利范围第1项所述之光学读取头装置,又包括一凹透镜,置于该分光镜及该光侦测器之间的光路径上。10.一种光源光轴间偏差的补偿方法,包括:一第一步骤,对光源其中之一施加一电压,以使其发射一光线;一第二步骤,使得该发射光线由一分光镜之一第一表面被反射,并穿透一物镜,聚焦于一记录介质上,再被该记录介质反射;一第三步骤,使得被该记录介质反射之被该记录介质反射之光线入射于该分光镜之一第二表面;一第四步骤,当该光源发射之该光线与该记录介质之光学距离较近而与其他光线较远时,将入射该分光镜之该第二表面之该光线绕射成一较大之+1级绕射光线以及一较小之残余光线,而当该光源发射之该光线与该记录介质之光学距离较近而与其他光线较近时,将入射该分光镜之该第二表面之该光线绕射成一较人之0级绕射光线以及一较小之残余光线;一第五步骤,将由该第二表面透射之该0级绕射光线或该+1级绕射光线予以聚焦至一光侦测器。11.如申请专利范围第10项所述之方法,其中在该第二步骤中,由该光源发射之该光线以一45度角入射于该分光镜之该第一表面。12.如申请专利范围第10项所述之方法,其中在该第上步骤中,50%的该光线被该分光镜之该第一表面反射。13.如申请专利范围第10项所述之方法,其中在该第四步骤中,该0级绕射至少占入射该第二表面之该光线的70%。14.如申请专利范围第10项所述之方法,其中在该第四步骤中,该+1级绕射光线至少占入射该第二表面之该光线的70%。图式简单说明:第1图系一示意图,绘示出一种传统光学读取头装置;第2图系基于本发明之一光学读取头装置的较佳实施例;以及第3图系第2图A部分的放大图,其绘示出本发明之一较佳实施例中,光轴间偏差的补偿方法。 |
