| 主权项 |
1.一种液相沈积(LPD)生产装置,其系包括有:一组饱和反应系统,该饱和反应系统包含一只混合槽、两只以上之原物料供给装置;一组稳流过饱和循环反应系统,该稳流过饱和循环反应系统包含一只过饱和反应槽、至少一只液位控制槽、两只以上之反应剂供给装置,该液体控制槽底部可为连通设计,可始两液位控制槽内液面高一致,并以相关管路阀体控制元件与所述之饱和反应系统相连通;一浓度自动监控系统,在饱和反应系统或稳流过饱和循环系统设置有浓度自动监控系统,可即时监控PU値变化。2.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中在所述之饱和反应系统及稳流过饱和循环反应系统设置有废液回收处理系统,该废液回收处理系统包含两只以上之回收废液储存槽。3.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中所述之饱和反应系统更可包含搅拌器及过滤装置之设计。4.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中所述之稳流过饱和循环反应系统更可包含搅拌器及过滤装置之设计。5.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中该稳流循环系统系包含有过滤器、滤心阻塞感测器以及一加热器。6.如申请专利范围第2项所述之液相沈积生产装置,其中该废液回收处理系统更可装设有一回收废水感测器及一回收废液液位感测器。7.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中该液相沈积生产装置系可装设有一可感测泄漏情形之泄漏感测器。8.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中各该管线上系可有手动阀或自动阀之设计。9.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中各该管线上系可设有循环帮浦之设计。10.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中该过饱和反应槽及液位控制槽系可采用“单边溢流"之设计,当该过饱和反应槽内之液面过高时,再由单边溢出至该液位控制槽。11.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中该过饱和反应槽及液位控制槽系可采用“两侧溢流"之设计,在该过饱和反应槽之两侧设有液位控制槽,当该过饱和反应槽内之液面过高时,即溢出至两侧之该液位控制槽内。12.如申请专利范围第1项所述之液相沈积生产装置,其中该液相沈积生产装置并可设有若干加热器人工取样口,可以便随时抽检系统运作状态。13.一种液相沈积生产方法,其步骤包括:(a)先将两种以上之原物料,由所述饱和反应系统之原物料供给装置加入该混合槽,经充分搅拌反应至饱和后,同时经由连通之该管路阀体控制元件,送入该过饱和反应槽;(b)当该过饱和反应槽充满并溢流至该液位控制槽,且该液位控制槽液面到达设定位置时,即停止所述饱和物料输送,并切换该管路阀体控制元件至该稳流过饱和循环反应系统独立循环状态;(c)放置基板于该过饱和反应槽,再由该反应剂供给装置加入反应剂于该过饱和反应槽中,形成溶液过饱和现象即可在该基板上产生镀膜。14.如申请专利范围第13项所述之液相沈积生产方法,其中在步骤(c)之后更可包括一步骤(d):当该过饱和反应槽溶液浓度到达设定寿命上限时,切换该管路阀体控制元件至排放模式,将该稳流过饱和循环反应系统之溶液,送入一回收废液收集槽。15.如申请专利范围第14项所述之液相沈积生产方法,其中在该回收废液收集槽中,并可由一回收废液液位感测器及一回收废液感测器监测其回收废液操作情形。16.如申请专利范围第13项所述之液相沈积生产方法,其中在步骤(d)之后更可包括一清洗步骤(e):加入纯水于该过饱和反应槽中,至该过饱和反应槽充满并溢流至该液位控制槽,且该液位控制槽液面到一设定位置时,即停止加入所述纯水,并切换该管路阀体控制元件至循环模式,最后再排放该清洗后之废水。17.如申请专利范围第13项所述之液相沈积生产方法,其中在步骤(a)中更可包括一以过滤装置滤除多余固体物之动作。图式简单说明:图一为本发明实施例中稳流过饱和循环反应系统中,过饱和反应槽及液位控制槽之单边溢流示意图。图二为本发明实施例中稳流过饱和循环反应系统中,过饱和反应槽及液位控制槽之两侧溢流示意图。图三为本发明实施例之液相沈积生产装置之示意图。 |
