研磨设备与研磨方法

摘要

一种研磨设备(10)，包括：驱动机构(22)，用以在方向(R)上旋转工作台(21)；研磨液供应机构(40)，用以供应浆液(L)到研磨垫(23)上的预定供应位置(P)；研磨头(33)，其在工作台(21)的旋转方向上位于供应位置(P)的下游，并且保持晶片(W)以使晶片W与研磨垫(23)相对；以及遮挡体(52)，其在工作台(21)的旋转方向上位于研磨头(33)的下游，并从工作台(21)移除用过的浆液(L)。

主权项

1.一种研磨设备(10)，其特征在于包括：工作台(21)，其上表面上提供有研磨面；工作台驱动机构(22)，其使工作台(21)沿预定方向(R)绕垂直于该研磨面的旋转轴(C)旋转；研磨合成物供应机构(40)，用以提供研磨合成物(L)至该研磨面的预定供应位置(P)；待研磨对象保持机构(30)，其在工作台(21)的旋转方向(R)上位于供应位置(P)的下游，并保持待研磨对象(W)的待研磨面以使该待研磨面与工作台(21)的研磨面相对；以及研磨合成物移除机构(50)，其在工作台(21)的旋转方向(R)上位于待研磨对象保持机构(30)的下游，并从该工作台(21)移除被供应来研磨该待研磨对象(W)的研磨合成物(L)。