| 发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion des Randbereichs eines Halbleiterwafers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10131665(B4) |
申请公布日期 |
2005.09.22 |
| 申请号 |
DE20011031665 |
申请日期 |
2001.06.29 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
KROENINGER, WERNER;MARIANI, FRANCO |
| 分类号 |
G01N21/95;(IPC1-7):G01N21/95;G01N21/88;H01L21/66 |
主分类号 |
G01N21/95 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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