发明名称 用于离子束注入器的可调节注入角度的工件支撑结构
摘要 一种离子束注入器,包括:离子束源,所述离子束源用于产生沿束线运动的离子束(14);和真空腔或注入腔(22),其中工件(24)被定位以与离子束相交,用于向工件的表面(25)注入离子束。该离子束注入器还包括工件支撑结构(100),所述工件支撑结构被连接到注入腔上并支撑所述工件。该工件支撑结构包括:可转动地被固定至注入腔的旋转构件(110)。旋转构件相对于注入腔的转动改变了相对于注入腔内离子束束线部分的工件的注入角(A)。该工件支撑结构还包括平动构件(150),所述平动构件被可移动地连接到旋转构件上,并支撑工件沿行进路径进行线性运动。该平动构件沿一个方向移动,使得在工件沿其行进路径移动时能够保持离子束通过注入腔的距离恒定。
申请公布号 CN1669107A 申请公布日期 2005.09.14
申请号 CN03816309.8 申请日期 2003.07.10
申请人 艾克塞利斯技术公司 发明人 J·费拉拉
分类号 H01J37/317;H01J37/20 主分类号 H01J37/317
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 廖凌玲
主权项 1、一种离子束注入器,包括:a)离子束源,所述离子束源用于产生沿束线运动的离子束;b)注入腔,其中工件被定位以与离子束相交,用于向工件的注入表面注入离子束;和c)工件支撑结构,所述工件支撑结构被连接到注入腔上并支撑所述工件,所述工件支撑结构包括:1)旋转构件,所述旋转构件被连接到注入腔上,用于在注入腔内改变相对于一部分离子束的工件的注入角;和2)平动构件,所述平动构件可移动地被连接到旋转构件上,并支撑工件沿行进路径运动,其中平动构件的运动保持在撞击工件的注入表面之前离子束移动通过注入腔的恒定距离。
地址 美国马萨诸塞州