薄膜电晶体阵列的制造方法与装置

摘要

一种薄膜电晶体阵列的制造方法与装置，适用于薄膜电晶体阵列制程中形成导体层之步骤，以消除静电破坏的效应，此方法系采用两阶段式的光罩制程。首先利用第一阶段光罩制程，将形成于一基板上的导体层图案化，以形成一第一图案，这个第一图案包括数个独立电路以及连接前述各个独立电路的连结部位，以使同一层导体层连接成等电位，并可于基板边缘处制作尖端放电机制。之后，等到下一层导体层建构前，再利用第二阶段光罩制程，将第一图案的连结部位全部去除，以形成一第二图案，而第二图案中仅保留独立电路。