具有抗反射性质之光学层系统

摘要

本发明系关于具有抗反射性质之光学层系统、其制造方法及其用途，该光学层系统中有一层组位于透明的平面基材之至少一表面上，该层组包含折射率介于1.20至1.37的第一层及折射率介于1.40至1.48的第二平坦层。