发明名称 Halbleiter-Leistungsschalter sowie dafür geeignetes Herstellungsverfahren
摘要 Ein Halbleiter-Leistungsschalter (1) weist einen Sourcekontakt (2), einen Drainkontakt (3), eine zwischen Sourcekontakt und Drainkontakt vorgesehene Halbleiterstruktur und ein Gate (5), über das ein Stromfluss zwischen Sourcekontakt (2) und Drainkontakt (3) durch die Halbleiterstruktur hindurch steuerbar ist, auf. Die Halbleiterstruktur weist mehrere parallel geschaltete Nanodrähte (4) auf, die so angeordnet sind, dass jeder Nanodraht eine elektrische Verbindung zwischen dem Sourcekontakt und dem Drainkontakt ausbildet.
申请公布号 DE102004003374(A1) 申请公布日期 2005.08.25
申请号 DE200410003374 申请日期 2004.01.22
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 KREUPL, FRANZ;SEIDEL, ROBERT
分类号 B82B1/00;H01L21/335;H01L29/06;H01L29/12;H01L29/16;H01L29/775;H01L29/78;H01L51/30;(IPC1-7):H01L29/78;H01L21/336 主分类号 B82B1/00
代理机构 代理人
主权项
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