| 主权项 |
1.一种防止侧向漏光之基板,包含:一透明基材,其系用以承载一发光装置,发光装置系包含至少一发光元件;以及至少一反射介质,其系设置于透明基材之内。2.如申请专利范围第1项所述之防止侧向漏光之基板,其中反射介质之形状系为板状、片状、线状、棍状、柱状或球状。3.如申请专利范围第1项所述之防止侧向漏光之基板,其中反射介质之材料系具有大于等于50%之反射率。4.如申请专利范围第3项所述之防止侧向漏光之基板,其中反射介质之材料系为金属或合金。5.如申请专利范围第1项所述之防止侧向漏光之基板,其中透明基材之材料系为PMMA、塑胶、高分子或玻璃。6.如申请专利范围第1项所述之防止侧向漏光之基板,更包含:一阻隔层,其系设置于透明基材与发光装置之间。7.如申请专利范围第6项所述之防止侧向漏光之基板,其中阻隔层之材料系为SiOx、SiOxNy或SiNx。8.一种防止侧向漏光之基板,包含:一透明基材,其系用以承载复数个画素;以及至少一反射介质,其系对应画素间隙设置于透明基材之内。9.如申请专利范围第8项所述之防止侧向漏光之基板,其中反射介质之形状系为板状、片状、线状、棍状、柱状或球状。10.如申请专利范围第8项所述之防止侧向漏光之基板,其中反射介质之材料系具有大于等于50%之反射率。11.如申请专利范围第10项所述之防止侧向漏光之基板,其中反射介质之材料系为金属或合金。12.如申请专利范围第8项所述之防止侧向漏光之基板,其中透明基材之材料系为PMMA、塑胶、高分子或玻璃。13.如申请专利范围第8项所述之防止侧向漏光之基板,更包含:一阻隔层,其系设置于透明基材与画素之间。14.如申请专利范围第13项所述之防止侧向漏光之基板,其中阻隔层之材料系为SiOx、SiOxNy或SiNx。15.一种有机发光装置,包含:一防止侧向漏光之基板,包含一透明基材以及至少一反射介质,反射介质系设置于透明基材之内;以及至少一有机发光元件,其系设置于防止侧向漏光之基板上,有机发光元件包含一第一电极、至少一有机官能层及一第二电极依序设置于透明基材上。16.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中反射介质对应设置于有机发光元件周缘。17.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中反射介质对应设置于有机发光元件之间。18.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中反射介质之形状系为板状、片状、线状、棍状、柱状或球状。19.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中反射介质之材料系具有大于等于50%之反射率。20.如申请专利范围第19项所述之有机发光装置,其中反射介质之材料系为金属或合金。21.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中透明基材之材料系为PMMA、塑胶、高分子或玻璃。22.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,更包含:一阻隔层,其系设置于透明基材与有机发光元件之间。23.如申请专利范围第22项所述之有机发光装置,其中阻隔层之材料系为SiOx、SiOxNy或SiNx。24.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中防止侧向漏光之基板系选自刚性基板、柔性基板、玻璃基板以及矽基板至少其中之一。25.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中第一电极的材质系选自导电之金属氧化物。26.如申请专利范围第25项所述之有机发光装置,其中导电之金属氧化物的材质系选自氧化铟锡、氧化铝锌、氧化铟锌及镉锡氧化物至少其中之一。27.如申请专利范围第15项所述之有机发光装置,其中第二电极的材质系选自铝、钙、镁、铟、锡、锰、银、金及含镁之合金至少其中之一。28.如申请专利范围第27项所述之有机发光装置,其中含镁之合金包括但不限定为镁银合金、镁铟合金、镁锡合金、镁锑合金及镁碲合金。图式简单说明:图1为一示意图,显示习知的有机发光装置的示意图;图2为一示意图,显示习知的有机发光装置发光耗损之示意图;图3A与3B为示意图,显示依本发明较佳实施例之防止侧向漏光之基板的示意图;以及图4A与4B为示意图,显示依本发明较佳实施例之有机发光装置的示意图。 |
