EXPOSURE APPARATUS FOR COMPENSATING MASK CRITICAL DIMENSION UNIFORMITY,申请号KR20040000185-传众专利搜索

发明名称	EXPOSURE APPARATUS FOR COMPENSATING MASK CRITICAL DIMENSION UNIFORMITY
摘要
申请公布号	KR20050071833(A)	申请公布日期	2005.07.08
申请号	KR20040000185	申请日期	2004.01.03
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.	发明人	SHIM, WOO SEOK;KIM, EUN SUNG
分类号	H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利