发明名称 测试光罩结构
摘要 揭示一种测试光罩结构。本发明之测试光罩结构包含有至少一个与最终产品成固定比例之阵列图样区域,而依据此固定比例具有第一图样密度;以及至少一个测试光罩区域,具有第二图样密度。本发明之测试光罩结构系根据该第一图样密度以及该第二图样密度来调整阵列图样区域之面积与测试光罩区域之面积,以获致所需之图样密度。
申请公布号 TWI235283 申请公布日期 2005.07.01
申请号 TW092128779 申请日期 2003.10.17
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 吴文彬
分类号 G03F1/14 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人 黄庆源 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 1.一种测试光罩结构,包含有:至少一个与最终产品线宽与间隔等比例且成固定比例之阵列图样区域,其依据该固定比例具有第一图样密度;以及至少一个测试光罩区域,具有第二图样密度,其中根据该第一图样密度以及该第二图样密度来调整阵列图样区域之面积与测试光罩区域之面积,以获致所需之图样密度。2.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该测试光罩区域系呈现十字型,而阵列图样区域分成四个部分分布于该十字型测试光罩区域的周围。3.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该阵列图样区域之面积与测试光罩区域之面积系依照下式调整:所需之图样密度=(结构总面积中阵列图样区域面积之比例x第一密度)+(结构总面积中测试光罩区域面积之比例x第二密度)。4.如申请专利范围第1项所述之结构,其中该测试光罩区域系使用既有的测试光罩。图式简单说明:图1系显示习用之测试光罩之示意图;以及图2系显示根据本发明之测试光罩结构之示意图。
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号