| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME, THIN FILM FORMING APPARATUS AND HIGH DIELECTIRIC CONSTANT FILM FORMING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050066936(A) |
申请公布日期 |
2005.06.30 |
| 申请号 |
KR20040021385 |
申请日期 |
2004.03.30 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES, INC. |
发明人 |
KAMIYAMA SATOSHI;ARIKADO TSUNETOSHI |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/314;H01L21/316;H01L29/51;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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