| 主权项 |
1.一种内混式二段雾化装置,该雾化装置为一密闭之机构,于其顶面对应连设一可供液态金属导引进入雾化装置之主流道,而于该雾化装置之左、右两侧系设有可供气体(如:氮、氢、氩等气体)导引进入雾化装置之支流道,于雾化装置内部主流道之下方系设有一分离器,而该雾化装置底面系设置一喷嘴结构,该喷嘴结构系与分离器、主流道设置于同一垂直线上。2.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该喷嘴系为一漏斗状之设计。3.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该喷嘴出口之断面系可为矩形、菱形或圆形之设计。4.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该分离器之设计主要系以提供雾化装置中流体流动的速度、流场及流动方向的改变,以提高雾化的效果。5.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该分离器系可为三角柱体、圆锥体、四方柱体或菱形状体等设计。6.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该分离器主要系以立体块体为设计,可对应使液态金属于雾化过程对应撞击到此分离器,使雾化后的金属颗粒为更细微之单位。7.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该雾化装置混合腔底面对应锁固一窄化结构,该窄化结构内部系形成一混合腔,该混合腔之内壁系形成多角度的倾斜面,而该窄化结构混合腔内亦设有一分离器,该分离器之正下方系设置一出口;而该分离器所设置之位置系对应于雾化装置之喷嘴结构正下方,该分离器、出口系与雾化装置中的喷嘴结构、分离器及中心主流道设置于同一中心轴线上。8.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该雾化装置混合腔底面系可对应设置一收集槽,于收集槽一侧设有一侧风装置,该收集槽系为一上宽下窄的漏斗状设计,该收集槽底部接设有一回收管路,该回收管路对应连通一加热器后并与中心主流道连接者。9.如申请专利范围第1项所述之内混式二段雾化装置,其中:该收集槽之回收管路系可为双排管道之设计。图式简单说明:第一图 系本发明内混式二段雾化装置之示意图。第二图 系本发明内混式二段雾化装置中之喷嘴结构截面示意图。第三图 系本发明内混式二段雾化装置中之分离器结构示意图。第四图 系本发明内混式二段雾化装置中之另一使用实施例。第五图 系本发明内混式二段雾化装置中之又一使用实施例(一)。第六图 系本发明内混式二段雾化装置中之又一使用实施例(二)。 |
