Vakuum-Behandlungsanlage für ebene rechteckige bzw. quadratische Substrate

摘要

Eine Vakuum-Behandlungsanlage ist für ebene Substrate großer Kantenlänge vorgesehen, die in einer zumindest im wesentlichen senkrechten Stellung zugeführt und behandelt werden. Sie enthält eine Vakuumkammer mit mindestens zwei auf deren Umfang verteilten kammerseitig offenen Behandlungskammern, eine Schleusenreihe und eine drehbare Anordnung von Substrathaltern (13) innerhalb der Vakuumkammer mit einem Antriebsmechanismus (1) für eine sequentielle Rotation und Radialbewegung der Substrathalter (13) relativ zu den Behandlungskammern. Um dabei die Stellfläche, die Kammervolumina und die Evakuierungszeiten zu verringern, das "Handling" zu vereinfachen und vor allem die Verunreinigungsgefahr der Substrate durch abgeplatzte Schichtpartikel zu verringern, wird vorgeschlagen, daß die Substrathalter (13) in ihren unteren Bereichen über Lenkeranordnungen (8) mit dem Antriebsmechanismus (1) verbunden sind und daß zumindest die unteren Schwenklager der Lenkeranordnungen (8) unterhalb einer waagrechten Mittellinie (M) der Höhe (H) der tragenden Fläche der Substrathalter (13) angeordnet sind. Vorzugsweise sind alle Schwenklager unterhalb der waagrechten Mittellinie (M) angeordnet. Dabei können alternativ an Auslegern (4) hängende Parallelogramm-Lenkeranordnungen (8) angeordnet sein oder Trapezlenker-Anordnungen, die auf einem Drehteller aufgestellt sind. Der Substrattransport selbst erfolgt rahmenlos und vorzugsweise nach oben hin um einen Winkel zwischen 1 und 20 DEG gegen die ...