包含有一体形成于处理室壳体之循环回路的处理室

摘要

本发明系关于以一处理流体来处理一物体的方法及设备。该设备包含一形成于一处理室壳体内之处理室以及一体形成于该处理室壳体内之一流体循环回路。该方法包含在一体形成于一处理室壳体内之一流体循环回路内循环一流体流的步骤。该方法更包含在一处理室内产生一高速流体流的步骤。