| 发明名称 | 含碱金属的抛光系统及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抛光系统，包含(a)一液态载体、(b)一种碱金属离子、(c)含氨基及至少一个极性部分的化合物，其中极性部分含有至少一个氧原子和(d)一个抛光垫及/或磨料，其中该系统的总离子浓度高于临界凝结浓度。本发明也提供一种平面化或抛光复合基材的方法，包含将该基材与前述的抛光系统或一种下列抛光系统接触，该系统包含(a)一液态载体、(b)一种碱金属离子、(c)含有一个氨基及至少一个极性部分的化合物，其中该极性部分含有至少一个氧原子，和(d)一个抛光垫及/或磨料；并在制备抛光系统后约6小时或更少时间内抛光至少部分基材。 | ||
| 申请公布号 | CN1610730A | 申请公布日期 | 2005.04.27 |
| 申请号 | CN02803726.X | 申请日期 | 2002.01.14 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 菲利普·卡特;格雷戈里·H·博古什;弗朗西斯科·德里奇塞索罗;戴维·J·施罗德;杰弗里·P·张伯伦;布赖恩·L·米勒 |
| 分类号 | C09G1/02;H01L21/00;H01L21/321;H01L21/306 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 范明娥;张平元 |
| 主权项 | 1.一种抛光基材的方法，包含将该基材表面与下列抛光系统接触，该系统包含：(a)一种液态载体、(b)一种碱金属离子、(c)包含一个氨基及至少一个极性部分的化合物，其中该极性部分含有至少一个氧原子，(d)一个抛光垫及/或磨料；并且在制备抛光系统后约6小时或更少时间内进行抛光至少部分基材。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||