| 摘要 |
本发明的目的是提供一种：可应用判断研磨结束时机之研磨技术，并可在平稳的状态下稳定地对研磨物表面进行平坦研磨的研磨垫及其制造方法。为达成上述目的，本发明的研磨垫10，是由在表面具有研磨面11a的透光垫所构成。在透光垫11的背面11b上形成凹部12，可局部改变透光率。透光垫11在350nm～900nm的光波长范围内，至少对一种波长的光具有10％以上的透光率，其中又以30％以上的透光率更合适。透光垫11在370nm～900nm的光波长范围内，或最好在390nm～900nm的光波长范围内具有10％以上的透光率。此外，透光垫11在400nm～900nm的光波长范围内，或最好在450nm～900nm的光波长范围内具有30％以上的透光率。 |
