光刻装置和器件制造方法

摘要

一种光刻装置，其包括：配置成可调节辐射光束的照射系统；构造成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件能够在辐射光束横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束；构造成保持基底的基底台；配置成将带图案的辐射光束投影到基底的目标部分的投影系统，以及在基底高度的传感器，其包括辐射接收元件、支撑所述辐射接收元件的透明板和辐射检测装置，其中在基底高度的所述传感器布置成避免在所述辐射接收元件和所述辐射检测装置的最终元件之间的辐射损失。

主权项

1.一种光刻装置，其包括：用于调节辐射光束的照射系统；构造成支撑构图部件的支撑结构，该构图部件能够给辐射光束横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束；构造成保持基底的基底台；配置成将带图案的辐射光束投影到基底的目标部分的投影系统，以及在基底高度的传感器，其包括辐射接收元件、支撑所述辐射接收元件的透明板和辐射检测装置，其特征在于在基底高度的所述传感器布置成避免在所述辐射接收元件和所述辐射检测装置的最终元件之间的辐射损失。