发明名称 液晶定向处理剂及使用其之液晶元件、以及液晶之定向方法
摘要 本发明之目的系提供一种液晶定向处理剂,其为,以光照射液晶定向膜而无需液晶定向膜摩擦步骤之液晶定向方法中,能有效地得到均匀的液晶定向及,使所得定向具高安定性、耐光性和液晶定向处理剂,又,本发明系提供使用该液晶定向处理剂之液晶元件及液晶定向方法。即,本发明系有关高分子主链中具有下列一般式(1)~(7)(式中,R1、R2及R3分别为独立之氢原子、烷基、取代烷基、烯丙基或炔丙基)所示之任何一种键结,且此键结两端直接键结2价或3价芳香族基,或者此键结一端直接键结2价或3价芳香族基而另一端直接键结2价或3价脂环式烃基的数平均分子量为1000~300000之高分子化合物所形成的液晶定向处理剂,以及使用该液晶定向处理剂之液晶元件及液晶定向方法。
申请公布号 TWI227803 申请公布日期 2005.02.11
申请号 TW088114665 申请日期 1999.08.26
申请人 日产化学工业股份有限公司;财团法人相模中央化学研究所 发明人 见山幸广;仁平贵康;远藤秀幸;袋裕善;长濑裕;秋山映一;根本修克
分类号 G02F1/1337 主分类号 G02F1/1337
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种液晶定向处理剂,其为使用液晶定向处理剂对形成于基板上之高分子薄膜,以面对基板面照射光或电子线之方式,于基板面不进行摩擦处理下即可使液晶形成定向之方法所使用的液晶定向处理剂,其特征为,高分子主链中具下列一般式(1),或式(1a)、(1b)(R1为,式(2)~(21)中所选出之取代基,R2、R3、及R4为一般式(4)-(21)中所选出之取代基,Ra1、Ra2、Ra3及Ra4分别为独立之氢原子、乙基、异丙基、基、十六烷基)所示之重覆单位,又,因照射光或电子线而诱发二量化反应或异性化反应的取代基,例如下列一般式(22)-(31)(R5、R6、R7、R8、R9及R10分别为独立之氢原子、卤原子、烷基、取代烷基、取代烷氧基、羧基、烷氧基羰基或氰基)所示官能基,并不存在于高分子主链或侧链中,且由数平均分子量1000-300000之聚醯胺所得。2.一种液晶定向处理剂,其为使用液晶定向处理剂对形成于基板上之高分子薄膜,以面对基板面照射光或电子线之方式,于基板面不进行摩擦处理下即可使液晶形成定向之方法所使用的液晶定向处理剂,其特征为,高分子主链中具下列一般式(32a),或(32b)(R11为4价有机基、R11'为3价有机基、R12为下列式(13)、(14)、(33)-(38)中所选出之取代基)所示之重覆单位,又,因照射光或电子线而诱发二量化反应或异性化反应的取代基,例如前列一般式(22)-(31)所示官能基,并不存在于高分子主链或侧链中,且由数平均分子量1000-300000之聚醯亚胺先驱物经化学或热而醯亚胺化所得之聚醯亚胺。3.一种液晶定向处理剂,其为使用液晶定向处理剂对形成于基板上之高分子薄膜,以面对基板面照射光或电子线之方式,于基板面不进行摩擦处理下即可使液晶形成定向之方法所使用的液晶定向处理剂,其特征为,高分子主链中具下列一般式(39)-(42)(R13-R20分别为独立之下列式(43)-(50)所示,Ra5-Ra6分别为独立之氢或甲基)所示之重覆单位,又,因照射光或电子线而诱发二量化反应或异性化反应的取代基,例如前一般式(22)-(31)所示官能基,并不存在于高分子主链或侧链中,且为数平均分子量1000-300000之高分子。4.一种液晶定向方法,其为使用液晶定向处理剂对形成于基板上之高分子薄膜,以面对基板面照射光或电子线之方式,于基板上不进行摩擦处理下即可使液晶形成定向之方法,其特征为,使用如申请专利范围第1至3项中任何一项之液晶定向处理剂。
地址 日本