| 主权项 |
1.一种光罩图案,形成于一基板上,其图案包括: 一主图案;以及 至少一反相次解析辅助图案,位于该主图案之侧边 ,其中各该反相次解析辅助图案包括: 一第一辅助图案,接近该主图案配置,其中该第一 辅助图案与该主图案之相位差为180度;以及 一第二辅助图案,远离该主图案配置,且相邻于该 第一辅助图案,其中该第二辅助图案与该第一辅助 图案之相位差为180度。 2.如申请专利范围第1项所述之光罩图案,其中该主 图案之相位为180度。 3.如申请专利范围第2项所述之光罩图案,更包括一 遮蔽层,配置于该主图案以外的该基板上,以及配 置于最远离该主图案之该反相次解析辅助图案的 该第一辅助图案以外的该基板上。 4.如申请专利范围第1项所述之光罩图案,更包括一 遮蔽层,位于该基板上,其中该遮蔽层具有一开口, 暴露出该主图案以及该至少一反相次解析辅助图 案。 5.如申请专利范围第1项所述之光罩图案,其中该第 一辅助图案与该第二辅助图案的尺寸相同。 6.如申请专利范围第1项所述之光罩图案,其中该至 少一反相次解析辅助图案包括交替型相移式光罩 。 7.如申请专利范围第1项所述之光罩图案,其中该基 板包括石英基板。 8.一种光罩图案,位于一基板上,包括: 复数个主图案; 至少一第一反相次解析辅助图案,位于该些主图案 之间,各该第一反相次解析辅助图案包括单数个数 个辅助图案,其中 单数的该些辅助图案与该些主图案之相位差为180 度;以及 双数的该些辅助图案与该些主图案之相位差为0度 ;以及 复数个第二反相次解析辅助图案,位于该些主图案 之外侧,其中每一第二反相次解析辅助图案包括: 一第一辅助图案,接近该些主图案配置,其中该第 一辅助图案与该些主图案之相位差为180度;以及 一第二辅助图案,远离该些主图案配置,且相邻于 该第一辅助图案,其中该第二辅助图案与该第一辅 助图案之相位差为180度。 9.如申请专利范围第8项所述之光罩图案,其中该些 主图案之相位为180度。 10.如申请专利范围第9项所述之光罩图案,更包括 一遮蔽层,配置于该些主图案以外的该基板上、配 置于该至少一第一反相次解析辅助图案以外的该 基板上以及配置于最远离该些主图案之该些第二 反相次解析辅助图案的该第一辅助图案以外的该 基板上。 11.如申请专利范围第9项所述之光罩图案,更包括 一遮蔽层,位于该基板上,其中该遮蔽层具有一开 口,暴露出该些主图案、该至少一第一反相次解析 辅助图案以及该些第二反相次解析辅助图案。 12.如申请专利范围第9项所述之光罩图案,其中该 第一辅助图案与该第二辅助图案的尺寸相同。 13.如申请专利范围第9项所述之光罩图案,其中该 至少一第一反相次解析辅助图案以及该些第二反 相次解析辅助图案包括交替型相移式光罩。 14.如申请专利范围第9项所述之光罩图案,其中该 基板包括石英基板。 图式简单说明: 第1A图系依照本发明之一第一实施例之光罩图案 的上视示意图; 第1B图是本发明之光罩图案沿第1A图中I-I'方向的 剖面示意图; 第2A图系依照本发明之一第二实施例之光罩图案 的上视示意图; 第2B图是本发明之光罩图案沿第2A图中II-II'方向的 剖面示意图;以及 第3图系利用习知之铬膜光罩图案与本发明之第一 实施例的光罩图案进行曝光所测得的光强度与图 案位置之关系图。 |
