发明名称 半导体装置、薄膜载带及其制造方法
摘要 本发明是使布线图形与树脂的粘附性提高的半导体装置,它具有:包括凸部(17)具有已作成图形的布线图形(16)的薄片(14)、电极(13)焊接到凸部(17)上的半导体芯片(12)和在凸部(17)以外的区域在布线图形(16)上设有的树脂(19),布线图形(16)与树脂(19)之间的接触面为粗糙面。
申请公布号 CN1182574C 申请公布日期 2004.12.29
申请号 CN98800322.8 申请日期 1998.03.18
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 桥元伸晃
分类号 H01L21/60 主分类号 H01L21/60
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 姜郛厚;叶恺东
主权项 1.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括下列工序:在绝缘薄膜上形成金属膜,把上述金属膜制成图形以形成布线图形,然后,为使上述金属膜的规定部分变成凸部,对上述规定部分以外区域的上述金属膜进行蚀刻,并将上述金属膜被蚀刻的表面加工成粗糙面的工序;在制成图形、蚀刻以及加工成粗糙面之后,使上述金属膜朝向半导体芯片有电极的面,配置上述绝缘薄膜,使上述凸部与上述电极位置重合并接合的工序;以及对上述金属膜的作粗糙面加工的面,进行至少一次的树脂的配置的工序。
地址 日本东京都
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