发明名称 涡流衰减帽
摘要 一种涡流衰减帽。该涡流衰减帽系用来改变流体流向一容器内的出口或排水口之方向,该涡流衰减帽包含一上实心表面面积大于或等于出口的面积,一底部连接到出口,一侧壁位于上表面与出口之间,及一入口位于侧壁上,当一种流体从容器排出时,藉此减少一漩涡的形成。
申请公布号 TW506853 申请公布日期 2002.10.21
申请号 TW090119234 申请日期 2001.08.07
申请人 基纳提克斯克姆普尔系统公司 发明人 杰佛瑞 亚历山大 威莫;大卫R 凯亚特
分类号 B01F7/16 主分类号 B01F7/16
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种涡流衰减帽,其置于一容器内出口的上方,包含:一上实心表面,其大于或等于容器内之出口的面积;一底部,其连接到容器的一外表面;一侧壁,其位于上表面与底部之间;一入口,其位于侧壁中;及一出口,其位于容器出口的下方。2.如申请专利范围第1项的涡流衰减帽,其中衰减帽被制造并安装用来插入容器的出口,使得底部固定到容器的外表面及一处理管线。3.如申请专利范围第1项的涡流衰减帽,其中该底部进一步包括一种用来将底部固定到容器外表面的机构。4.如申请专利范围第1项的涡流衰减帽,其中该入口包含在侧壁上的一个或更多个孔。5.如申请专利范围第4项的涡流衰减帽,其中一个或更多个孔的总面积等于或大于出口的面积。6.如申请专利范围第1项的涡流衰减帽,其进一步包含一个过滤器。7.如申请专利范围第1项的涡流衰减帽,其中侧壁与容器底部垂直。8.如申请专利范围第7项的涡流衰减帽,其中一个或更多个入口有一中心平面与容器内流体出口的一中心平面垂直。9.如申请专利范围第1项的涡流衰减帽,其中一个或更多个入口的尺寸被设定成可容许最多的流体流经出口。10.如申请专利范围第1项的涡流衰减帽,其中设置一个或更多个入口以容许流体的平衡流通过侧壁。11.如申请专利范围第3项的涡流衰减帽,其中用来将底部固定到容器外表面的机构包含一个凸缘。12.如申请专利范围第3项的涡流衰减帽,其中用来将底部固定到容器外表面的机构是可拆卸式的。13.如申请专利范围第2项的涡流衰减帽,其中该底部进一步包括一个凸缘。14.如申请专利范围第2项的涡流衰减帽,其中该衰减帽进一步包含一个密封。15.如申请专利范围第2项的涡流衰减帽,其中衰减帽可拆卸式地固紧于容器的外表面与处理管线。图式简单说明:图1是一种实施例的等角视图,其显示一多重喷嘴混合器及本发明的涡流衰减帽的组合;图2描述本发明的一种涡流衰减帽的顶部前立体图;图3描述如图2中所显示之一种涡流衰减帽底部的前立体图;图4描述一种涡流衰减帽的剖面侧视图,如图2中所显示;图5描述本发明之涡流衰减帽之另一种实施例的侧底部立体图;图6描述显示于图5中之涡流衰减帽装在一种容器内的剖面侧视图;图7描述涡流衰减帽另一种实施例的上正视图,一底部视图以虚线显示;及图8描述显示于图7中之涡流衰减帽装在一种容器内的展开侧视图。
地址 美国